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    低真空CVD石墨烯生長(cháng)系統是由1200度開(kāi)啟式管式爐、精密的質(zhì)量流量控制系和真空系統所組成。廣泛應用在半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、新工藝領(lǐng)域。
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